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Lampe à excimères de 172 nm

Lampe à excimères de 172 nm

  • Module de lampe excimère 172 nm, nettoyage UV de plaquettes et masques de semi-conducteurs, matage de film FMM/Invar
    Il élimine les contaminants organiques à l'échelle nanométrique. Largement utilisé pour le nettoyage UV des plaquettes de semi-conducteurs, des masques métalliques fins FMM, des masques Invar, des masques d'évaporation OLED et des photomasks. Nettoyage UV des circuits imprimés et matage UV excimère sur les lignes de revêtement par rouleaux. Il constitue une alternative économique aux lampes excimères 172 nm Hamamatsu et Ushio.

    Nettoyage des plaquettes et des FMM

    Film mat et revêtement

    élimination des particules organiques par plaque froide

    modification hydrophile

  • Module excimère 172 nm pour l'élimination des particules organiques par plaque froide, la réduction du COT et la purification de l'eau

    Conçu pour les systèmes d'eau ultrapure (UPW), ce produit écologique est sans mercure. Module VUV 172 nm Ce système déclenche une puissante oxydation radicalaire pour réduire le COT jusqu'à des concentrations de l'ordre du ppb. En convertissant les composés organiques en traces de CO₂ et d'H₂O, il offre une solution de purification d'eau idéale pour les industries des semi-conducteurs, pharmaceutiques et les laboratoires. Sa conception modulaire intelligente simplifie la maintenance sur site et l'extension du système, avec une prise en charge complète des niveaux de puissance et des débits personnalisés.

    Semiconducteur UPW TOC

    Eau pure pharmaceutique TOC

    Eau ultrapure de laboratoire

    Systèmes de réduction du COT en ligne

  • Intégration industrielle Lampes à excimères 172 nm Nettoyage de surface par photolithographie

    Améliorez la précision de vos traitements de surface avec les produits GMY. Lampes à excimères de 172 nmUtilisation de technologies avancées oxydation photochimiqueNos solutions de lumière UV de 172 nm sans mercure décomposent efficacement les contaminants organiques pour atteindre une propreté atomique sur les plaquettes de semi-conducteurs, les substrats d'affichage et les dispositifs optiques.

    Supports d'affichage

    Plaquettes de silicium semi-conductrices, circuits intégrés

    circuits intégrés

    Dispositifs optiques

    Production d'écrans LCD

    Papier électronique

    Lentilles AR

    Fabrication micro-nano

  • Modification du revêtement par photopolymérisation de surface mate avec lampe excimère haute puissance de 172 nm

    Découvrez la haute efficacité de GMY Lampes à excimères de 172 nm pour photopolymérisation industrielleLampe VUV puissante de 350 W à 1 000 W, sans mercure, pour une réticulation de surface rapide, une finition mate et la modification des revêtements PPF/PCB. Comparée au durcissement UV traditionnel, elle raccourcit le temps de durcissement et améliore les effets de modification de surface.

    Films de protection de peinture

    Panneaux doux au toucher

    Équipement de revêtement

    Encres pour papier et emballage

    Encres pour meubles

    Encres automobiles et revêtements connexes

    Revêtements pigmentés et transparents

    Encres pour circuits imprimés

    Revêtements adhésifs

    Impression 3D

     

  • Module de photomodification excimère 172 nm pour implants dentaires

    Le Module de photomodification GMY 172 nm Ce module constitue la solution de choix compatible avec le vide pour activer l'hydrophilie des implants dentaires. Grâce à sa technologie excimère de 172 nm de haute précision, il purifie les surfaces en titane en décomposant les hydrocarbures organiques, ce qui améliore considérablement la bioactivité du TiO₂ et l'ostéointégration. Conçu pour une intégration optimale, ce module se distingue par sa puissance élevée, son faible impact thermique, son cycle de réaction rapide et la couverture homogène et étendue de son faisceau.

    Modification de surface

    Élimination des contaminants organiques

    Nettoyage ultra-fin

  • Module de lampe excimère miniature de 172 nm pour le traitement des semi-conducteurs

    Le Module excimère MINl 172 nm est une solution de bureau compacte et prête à l'emploi pour Recherche et développement en semi-conducteurs et validation en laboratoire. Délivrant un rayonnement ultraviolet sous vide (VUV) à ondes courtes, il clive les liaisons moléculaires pour éliminer les contaminants organiques et modifier l'énergie de surface sans endommager le substrat, fournissant une plateforme de validation de processus agile pour les laboratoires de recherche et les universités.

    Affichage flexible

    couches minces optiques

    Prétraitement avant revêtement

  • Dispositif de nettoyage UV haute énergie à excimère de 172 nm pour la modification de surface des batteries semi-conductrices

    Le Dispositif UV à excimère de 172 nm livre nettoyage photographique à haute énergie et modification de surface à l'échelle nanométrique Pour les semi-conducteurs, les batteries et les matériaux avancés. Utilisant des photons UV froids de 172 nm, ce système compact rompt les liaisons chimiques organiques et oxyde les contaminants sans endommager le substrat. Avec une grande uniformité de ±15% et fonctionnant à des températures inférieures à 40 °C, elle offre une alternative écologique et à faible consommation aux lampes à mercure basse pression traditionnelles.

    Longueur d'onde de 172 nm

    > 45 mW/cm²Intensité

    30 L/minApport d'azote

  • Dégradation du COT de l'eau ultrapure par lampe à excimères à 172 nm

    GMY Lampes à excimères de 172 nm offrir un rayonnement VUV de haute énergie à dégrader le COT Des lampes sans mercure de 15 W/20 W permettent d'atteindre des concentrations de l'ordre du ppb dans l'eau ultrapure. Elles sont destinées au traitement industriel des eaux. Nos systèmes de traitement par UV, grâce à la génération de radicaux libres, oxydent la matière organique en CO₂ et H₂O. Cette technologie de pointe est particulièrement adaptée à la production d'eau ultrapure.

    Élimination du COT de l'eau ultrapure

    Polluants à l'état de traces dans l'eau potable

    Décomposition des résidus de pesticides

    Traitement des eaux usées issues de la teinture textile

    Génération d'ozone de haute pureté

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