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Dispositif de nettoyage UV haute énergie à excimère de 172 nm pour la modification de surface des batteries semi-conductrices
Semiconductor Surface Modification Device
dry organic contaminant removal machine

Dispositif de nettoyage UV haute énergie à excimère de 172 nm pour la modification de surface des batteries semi-conductrices

Le Dispositif UV à excimère de 172 nm livre nettoyage photographique à haute énergie et modification de surface à l'échelle nanométrique Pour les semi-conducteurs, les batteries et les matériaux avancés. Utilisant des photons UV froids de 172 nm, ce système compact rompt les liaisons chimiques organiques et oxyde les contaminants sans endommager le substrat. Avec une grande uniformité de ±15% et fonctionnant à des températures inférieures à 40 °C, elle offre une alternative écologique et à faible consommation aux lampes à mercure basse pression traditionnelles.

  • Modèle :

    EX-C300

  • Température de fonctionnement :

    -5℃~50℃

  • Intensité (Distance de la surface d'irradiation 8 mm) :

    >45 mW/cm2

  • Apport d'azote :

    30Lpm

  • Puissance totale :

    <400W

  • Tension d'entrée (V) :

    AC220V
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  • Caractéristiques principales

    01 Nettoyage à grande vitesse

    Offre une vitesse de nettoyage 10 fois supérieure à celle des lampes à mercure basse pression traditionnelles, accélérant considérablement les cycles de traitement en ligne ou par lots.

    02 Commutation individuelle

    Permet la commutation individuelle de chaque module de lampe en fonction des largeurs de traitement, optimisant ainsi le bilan énergétique et prolongeant la durée de vie totale de la lampe.

    03 Fonctionnement à basse température

    Prévient les dommages thermiques sur les matériaux sensibles à la chaleur, en maintenant une température de surface du substrat stable ne dépassant pas strictement 40℃.

    04 Faible consommation d'énergie

    Une architecture très écologique qui consomme 65 % d'énergie en moins que les configurations de lampes à mercure standard sans perte d'intensité lumineuse.

    05 Gain de place

    Il est doté d'un bloc d'alimentation très compact, qui prend en charge sans effort l'ensemble du système de traitement au sein de lignes de production automatisées à espace restreint.

    06 Entretien facile

    Conçu pour un nettoyage et un entretien de routine sans effort, permettant aux opérateurs d'effectuer un remplacement rapide des lampes afin d'éviter les temps d'arrêt opérationnels.

    07 Uniformité élevée

    Garantit une uniformité d'irradiance de ±15 % sur toute la zone d'irradiation désignée, augmentant ainsi considérablement la stabilité du traitement par lots.

     

    172 nm Dispositif UV à haute énergie

     

    Le système excimère ultraviolet (UV) sous vide à haute énergie de 172 nm représente un changement de paradigme dans
    Nettoyage industriel à sec et modification de surface à l'échelle atomique.
    Conçu pour les filières d'encapsulation de semi-conducteurs, de développement de batteries lithium-ion et de fabrication d'écrans,
    Ce système photonique à haut flux cible l'architecture moléculaire des contaminants organiques de surface.
    sans modifier les propriétés globales du substrat.
     
    En générant des photons intenses à longueur d'onde unique de 172 nm, le système produit un mécanisme de nettoyage à double action :
    clivant directement des liaisons chimiques organiques critiques (C=C, CH, OH) tout en générant simultanément des agrégats d'oxygène singulet et d'ozone hautement réactifs à partir d'environnements ambiants ou purgés à l'azote.
    Les oxydes volatils ainsi formés se détachent proprement, laissant une surface ultra-pure et hautement hydrophile, prête pour les processus de micro-collage, de revêtement ou de dépôt.

    --------------占位--------------------

    VIDÉO D'OPÉRATION

    Certifications et conformité

    ISO Certificate
    ISO

    ISO 9001/14001

    Systèmes de gestion de la qualité et de l'environnement certifiés garantissant un étalonnage uniforme de la production.

    CE Certified Declaration
    CE

    Certifié CE

    Entièrement conforme aux normes européennes en matière de santé au travail, de sécurité des systèmes et de protection.

    ROHS Compliance Certificate
    RoHS

    Conforme à la norme RoHS

    Architecture matérielle écologique, exempte de plomb, de mercure et d'éléments lourds dangereux réglementés.

    UL Safety Certificate
    UL

    Certifié UL

    Répond aux critères rigoureux d'isolation électrique, de mise à la terre et de sécurité opérationnelle en Amérique du Nord.

    FAQ

    Q Pourquoi choisir la lumière excimère à longueur d'onde unique de 172 nm plutôt que les lampes à mercure basse pression traditionnelles ?

    Les lampes à mercure traditionnelles émettent de larges longueurs d'onde à 185 nm et 254 nm, reposant fortement sur des réactions secondaires d'ozone. Notre système excimère spécialisé à 172 nm projette une énergie photonique de 7,2 eV, correspondant directement à l'énergie de liaison covalente des polluants organiques courants (C=C, CH) et la rompant. Ceci permet des vitesses de nettoyage à sec jusqu'à 10 fois plus rapides et élimine les risques liés aux rayonnements thermiques élevés.

    Q Comment la fonction de commutation individuelle empêche-t-elle la dégradation prématurée de la lampe ?

    Contrairement aux connexions en série où la défaillance d'une seule lampe compromet l'ensemble du système, notre système alimente chaque tube individuellement en ballasts électriques isolés. Les utilisateurs peuvent ainsi remplacer les modules indépendamment en fonction de la largeur de surface du substrat requise, ce qui prolonge la durée de fonctionnement et simplifie les interventions ciblées sur site sans interruption de service.

    Q Quelles sont les exigences environnementales essentielles pour le fonctionnement du système EX-C300 ?

    L'appareil industriel EX-C300 fonctionne sur une alimentation de 220 V CA, dans des conditions ambiantes standard (de -5 °C à 50 °C) et avec un circuit de refroidissement d'eau à recirculation à 25 °C. Pour optimiser les performances du traitement VUV et éviter l'oxydation de la fenêtre interne, un apport stable d'azote (N₂) de 30 L/min est recommandé pendant les cycles d'irradiation.
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