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Le Dispositif UV à excimère de 172 nm livre nettoyage photographique à haute énergie et modification de surface à l'échelle nanométrique Pour les semi-conducteurs, les batteries et les matériaux avancés. Utilisant des photons UV froids de 172 nm, ce système compact rompt les liaisons chimiques organiques et oxyde les contaminants sans endommager le substrat. Avec une grande uniformité de ±15% et fonctionnant à des températures inférieures à 40 °C, elle offre une alternative écologique et à faible consommation aux lampes à mercure basse pression traditionnelles.
Longueur d'onde de 172 nm
> 45 mW/cm²Intensité
30 L/minApport d'azote
