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Face à la forte dépendance de l'industrie aux sources lumineuses importées dans le secteur de la fabrication de pointe, GMY a noué des partenariats avec des fabricants d'équipements en aval pour mener des activités de R&D ciblées. S'appuyant sur son expertise technologique en photonettoyage, photopolymérisation, modification de surface, stérilisation des fluides et traitement des gaz résiduaires industriels, GMY propose des solutions optiques économiques répondant aux exigences rigoureuses des industries de précision, tout en garantissant un rayonnement stable.
Le rayonnement quantique de haute énergie de la lumière ultraviolette excimère à 172 nm décompose les chaînes moléculaires des polluants organiques présents à la surface du matériau, tout en stimulant la production d'oxygène bioactif et de radicaux libres. Ce processus oxyde et dégrade instantanément les matières organiques résiduelles en CO₂ et H₂O gazeux, permettant ainsi un traitement de surface ultra-propre, sans contact et sans traces chimiques.
Nous proposons des solutions de pointe largement utilisées dans les domaines suivants :
Utilisant une technologie de matage et de polymérisation de surface par excimères à 172 nm, ce procédé rompt directement les liaisons moléculaires du polymère grâce à une longueur d'onde spécifique de haute énergie, initiant une réaction de réticulation rapide entre monomères et oligomères. Comparé à la polymérisation UV à large bande traditionnelle, ce procédé micro-reconstruit précisément la surface nivelée, obtenant un effet de matage uniforme par micro-pliage en un temps extrêmement court, ce qui améliore considérablement la dureté et la résistance aux rayures de la surface.
Convient aux domaines suivants :
Ce procédé combine une source de lumière UV de 185 nm et une lampe à excimères de 172 nm pour déclencher une puissante réaction photochimique dans les canalisations de fluides. La photocatalyse de la dissociation des molécules d'eau génère des radicaux hydroxyles hautement réactifs qui oxydent et décomposent complètement le carbone organique total (COT) résiduel en CO₂ et H₂O. La source de lumière à excimères de 172 nm, grâce à sa haute énergie photonique, assure une réduction très efficace du COT pour les systèmes d'eau ultrapure et d'eau ultra-haute pureté (UPW).
Amélioration de l'énergie de surface :
L'intervention radiative d'une lumière excimère de 172 nm permet de rompre efficacement les chaînes moléculaires hydrocarbonées présentes à la surface de matériaux non polaires. La réaction photochimique induit la formation d'un grand nombre de groupements hydrophiles polaires, tels que les groupements hydroxyle (-OH) et carboxyle (-COOH), augmentant ainsi significativement l'énergie libre de surface du matériau. Le substrat traité acquiert une hydrophilie complète, les gouttelettes se transformant instantanément de microsphères en un film liquide uniformément réparti à sa surface.
Titane, feuille d'aluminium, etc.
Plaquettes de silicium, substrats en verre ITO.
PP, PC, PE, PMMA, PET, PVC, PS.
Découvrez en action nos applications avancées de source de lumière excimère de 172 nm, nos lignes d'inspection de qualité de précision et nos flux de production automatisés.
Faites confiance à GMY pour des lampes excimères 172 nm robustes et des systèmes de photonettoyage personnalisables adaptés aux normes de votre secteur.
