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Intégration industrielle Lampes à excimères 172 nm Nettoyage de surface par photolithographie
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Intégration industrielle Lampes à excimères 172 nm Nettoyage de surface par photolithographie

Améliorez la précision de vos traitements de surface avec les produits GMY. Lampes à excimères de 172 nmUtilisation de technologies avancées oxydation photochimiqueNos solutions de lumière UV de 172 nm sans mercure décomposent efficacement les contaminants organiques pour atteindre une propreté atomique sur les plaquettes de semi-conducteurs, les substrats d'affichage et les dispositifs optiques.

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  • Spécifications du produit

    ModèlePouvoirDimensions du tube (Diamètre × Longueur)Longueur d'émissionCode produit
    172E860D40×957860 Wφ40 × 957 mm860 mmA520121 4001000
    172E172D26,5×908172 Wφ26,5 × 908 mm842 mmA5201215001000

     

    Caractéristiques principales

    01 Fonctionnement sans mercure

    Traitement UV sous vide 100 % écologique, entièrement conforme aux restrictions internationales RoHS, éliminant les risques liés au mercure et les risques d'élimination des déchets provenant des salles blanches.

    02 Les photons de haute énergie génèrent des radicaux hydroxyles (HO*).

    Émet des longueurs d'onde VUV à haute énergie pour ioniser en continu les molécules d'oxygène ambiantes, produisant des radicaux hydroxyles réactifs à haute densité (HO*) pour un clivage rapide des liaisons organiques.

    03 Qualité constante et livraison fiable grâce à une grande capacité de production

    S’appuyant sur des lignes de production à l’échelle industrielle, garantissant une uniformité totale des lots, des tests de vieillissement rigoureux avant expédition et une fiabilité à toute épreuve de la chaîne d’approvisionnement.

    04 Conception de lampe personnalisable pour une application flexible

    Longueurs d'arc sur mesure, dimensions d'enveloppe, bornes électriques multipoints et commandes de ballast adaptées pour une intégration mécanique parfaite dans des outils personnalisés.

     
    172 nm Lampes à excimères - Nettoyage de photos
    Améliorez la précision de vos traitements de surface grâce aux lampes excimères 172 nm de GMY. Utilisant l'oxydation photochimique,
    Nos solutions de lumière UV 172 nm sans mercure décomposent efficacement les contaminants organiques.
    pour atteindre une propreté atomique sur les plaquettes de semi-conducteurs, les substrats d'affichage et les dispositifs optiques.
    La lampe excimère de 172 nm est une source de lumière ultraviolette sous vide de nouvelle génération conçue pour
    Spécialement conçu pour le nettoyage à sec haute performance et la modification de surface.
    Fonctionnant selon le principe de l'oxydation photochimique directe,
    Les photons VUV de 172 nm transportent l'énergie nécessaire pour rompre les liaisons moléculaires des contaminants organiques présents à la surface du matériau.
    Simultanément, la lumière réagit avec l'oxygène ambiant, laissant la surface cible d'une propreté atomique sans endommager la structure du substrat.

    --------------占位--------------------

    Application Champs

    Supports d'affichage

    Permet le traitement à sec VUV à grande échelle des grandes surfaces de verre. Élimine efficacement les traces multimoléculaires résiduelles avant le traitement des couches pour garantir une uniformité maximale et des taux de rebut réduits.

    Plaquettes de silicium semi-conductrices

    Élimine les agrégats organiques invisibles et les hydrocarbures présents dans l'air des surfaces de silicium brut jusqu'à l'échelle atomique. Prépare les motifs critiques des plaquettes pour les pistes de lithographie natives et les couches d'oxyde.

    circuits intégrés

    Décontamine les microbilles et les interconnexions de circuits intégrés haute densité avant le collage flip-chip. Nettoie les pistes de connexion pour améliorer considérablement l'adhérence du matériau de remplissage et éliminer le décollement du boîtier.

    Dispositifs optiques

    Permet un nettoyage à sec sans contact et à froid des prismes délicats, des composants cristallins et des optiques laser de pointe. Préserve les couches antireflets minces des rayures et des traces de solvants liées au nettoyage manuel.

    Production d'écrans LCD

    Nettoie les plaques à cristaux liquides des transistors à couches minces (TFT), les filtres de couleur et les cibles polarisantes. Optimise la mouillabilité de la surface pour favoriser une répartition uniforme du matériau lors des processus de production à grande vitesse sur les chaînes d'assemblage.

    Papier électronique

    Optimise les couches de support polymères complexes et les panneaux matriciels des écrans à papier électronique flexibles. Augmente significativement la densité de réticulation interfaciale sans induire de distorsions thermiques structurelles.

    Lentilles AR

    Effectue un nettoyage photochimique de précision sur les lentilles intelligentes portables en résine ou en verre. Réduit considérablement l'angle de contact de l'eau en surface avant les procédés de dépôt en phase vapeur afin de garantir des revêtements optiques durables et sans traces.

    Fabrication micro-nano

    Déclenche la modification chimique et l'insertion de groupes polaires fonctionnels (-OH, -COOH) sur des résines polymères et des dispositifs microfluidiques de laboratoire sur puce, établissant des canaux capillaires sur substrat solide et une liaison permanente.

    Certifications et conformité

    ISO Certificate
    ISO

    ISO 9001/14001

    Système de gestion de la qualité certifié garantissant un niveau de fabrication supérieur.

    CE Certified Declaration
    CE

    Certifié CE

    Entièrement conforme à la législation européenne en matière de santé, de sécurité et de protection de l'environnement.

    ROHS Compliance Certificate
    RoHS

    Conforme à la norme RoHS

    Fabrication écologique, totalement exempte de substances dangereuses.

    UL Safety Certificate
    UL

    Certifié UL

    Norme de conformité nord-américaine de premier plan en matière de sécurité électrique et de prévention des incendies.

    FAQ

    Q Qu’est-ce qui rend les lampes excimères de 172 nm supérieures aux lampes UV traditionnelles de 185 nm pour le photonettoyage ?

    Contrairement aux lampes à mercure basse pression (185 nm/254 nm), la lumière excimère de 172 nm émet une énergie monophotonique nettement supérieure, capable de rompre directement les liaisons moléculaires carbone-carbone fortes au sein des composés organiques. De plus, la lumière de 172 nm présente des coefficients d'absorption exceptionnellement élevés dans l'atmosphère, ce qui lui permet de générer simultanément une forte densité de radicaux hydroxyles ($HO^\bullet$) et d'ozone natif, accélérant ainsi de façon exponentielle l'élimination des contaminants organiques.

    Q Ces lampes excimères industrielles haute puissance sont-elles sans mercure ?

    Oui, toutes les lampes excimères GMY 172 nm fonctionnent grâce à la technologie DBD (décharge à barrière diélectrique) sans mercure. Elles sont ainsi parfaitement conformes aux normes environnementales strictes, à la directive RoHS et aux directives environnementales actuelles, ce qui les rend sûres pour les salles blanches et faciles à recycler en fin de vie.

    Q Peut-on intégrer directement ces lampes dans des lignes de convoyage automatisées à grande vitesse ?

    Absolument. Grâce à la technologie excimère, qui permet un allumage instantané, ces lampes ne nécessitent pas les longs temps de préchauffage des lampes à mercure. Elles s'allument et s'éteignent instantanément grâce à des déclencheurs de convoyeur, évitant ainsi la surchauffe lors d'arrêts système imprévus et offrant une grande flexibilité d'intégration.
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