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Les substances perfluoroalkylées et polyfluoroalkylées (PFAS), une classe de nouveaux polluants organiques persistants hautement bioaccumulables et toxiques, sont extrêmement difficiles à dégrader par les procédés traditionnels de dépollution des eaux. Face à ce défi environnemental mondial, les dernières recherches empiriques menées au Japon ont ouvert une nouvelle voie technologique : l’utilisation d’un rayonnement de haute énergie, la lumière excimère de 172 nm, pour la photolyse et le traitement sans danger de ces composés organiques tenaces. Cette approche offre une méthode d’élimination physique très efficace.
Contexte technique : Le dilemme de la dépollution des PFAS – « Produits chimiques permanents »
Les PFAS (substances per- et polyfluoroalkylées) sont des composés organiques de synthèse typiques. Grâce aux liaisons carbone-fluor extrêmement fortes présentes dans leur structure moléculaire, ils possèdent une excellente stabilité chimique, une résistance à la chaleur et des propriétés hydrophobes et oléophobes, ce qui explique leur utilisation répandue dans divers produits industriels et de consommation. Du fait de leur quasi-absence de dégradation spontanée dans la nature, ils sont qualifiés de « polluants permanents » par l'industrie, constituant ainsi une menace sérieuse et durable pour la sécurité de l'eau.
Mécanisme de photolyse des excimères à 172 nm et efficacité quantitative
Le déroulement du processus et le mécanisme principal de la photolyse par excimères à 172 nm des PFAS sont les suivants :
Processus : Premièrement, les PFAS présents dans le fluide sont extraits et agrégés à un taux élevé grâce à une technologie de récupération et de concentration en prétraitement.
Mécanisme réactionnel : Une source de lumière excimère de 172 nm est ensuite introduite pour générer un rayonnement quantique de haute énergie. Sous l’effet du clivage synergique à haute vitesse des molécules d’eau, des radicaux hydroxyles (·OH) hautement réactifs et des électrons, les chaînes moléculaires sont directement rompues.
Preuves empiriques : Les données expérimentales confirment que même à des concentrations élevées de mg/L, le PFOA (acide perfluorooctanoïque) et le PFOS (acide perfluorooctanesulfonique) dans l'eau peuvent atteindre un taux de dégradation et d'élimination d'environ 99 % au cours d'un cycle de réaction spécifique.
GMY : Fournisseur de solutions de sources lumineuses excimères de qualité industrielle de 172 nm
Forte de son expertise technologique approfondie dans le domaine des sources de lumière électrique spéciales, GMY a mis en place une plateforme de R&D complète dédiée à la technologie de la lumière excimère à 172 nm. Au-delà du traitement de l'eau de pointe et de la dégradation des polluants persistants, nos solutions modulaires sont largement utilisées dans des procédés clés tels que le photonettoyage industriel, la photopolymérisation à haut rendement, la modification hydrophobe des surfaces et la réduction de la concentration en carbone organique total (COT) dans la production d'eau ultrapure.
Nous fournissons en permanence des composants de sources lumineuses spécialisées d'une grande fiabilité et des services OEM/ODM personnalisés aux instituts de recherche, aux fabricants haut de gamme et aux sociétés d'ingénierie environnementale modernes, en utilisant une technologie photonique de pointe pour surmonter les limites de la gouvernance environnementale dans divers secteurs.
